特別聲明：

EM01-RD多入射角激光橢偏儀（研發）已升至EMPro31 型多入射角激光橢偏儀，主要升內容包括：

單次測量速度提高3倍;

新的儀器外形;

整體穩定性增強.

納米薄膜高端研發領域的多入射角激光橢偏儀，用于納米薄膜的厚度、折射率n、消光系數k等參數的測量。適用于光面或絨面納米薄膜測量、塊狀固體參數測量、快速變化的納米薄膜實時測量等不同的應用場合。采用量拓科技多項技術，儀器操作具有個性化定制功能，方便使用。

特點：

高精度、高穩定性

一體化集成設計

快速、高精度樣品方位對準

多入射角度測量

快速反應過程的實時測量

操作簡單

豐富的材料庫及物理模型

強大的數據分析和管理

應用領域：

可對納米薄膜層構樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數k進行快速、高精度、高準確度的測量，尤其適合于科研和工業產品環境中的新品研發

可用于表征單層納米薄膜、多層納米層構膜系，以及塊狀材料（基底）。

應用領域涉及納米薄膜的幾乎領域，如微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、電化學、磁介質存儲、聚合物及金屬表面處理等。

性能保證：

高穩定性的He-Ne激光光源、高精度的采樣方法以及低噪聲探測技術，保證了系統的高穩定性和高準確度

.高精度的光學自準直望遠系統，保證了快速、高精度的樣品方位對準

穩定的結構設計、可靠的樣品方位對準，結合采樣技術，保證了快速、穩定測量

分立式的多入射角選擇，可應用于復雜樣品的折射率和相對厚度的測量

一體化集成式的儀器結構設計，使得系統操作簡單、整體穩定性提高，并節省空間

軟件方便納米薄膜樣品的測試和建模。

技術指標：

NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標片

NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標片

VP01真空吸附泵

VP02真空吸附泵

樣品池