EX2自動橢圓偏振測厚儀
產品摘要
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EX2自動橢圓偏振測厚儀是基于消光法(或稱“零橢偏”)橢偏測量原理,針對納米薄膜厚度測量領域推出的一款自動測量型教學儀器。
EX2儀器適用于納米薄膜的厚度測量,以及納米薄膜的厚度和折射率同時測量。
EX2儀器還可用于同時測量塊狀材料(如,金屬、半導體、介質)的折射率n和消光系數k。
特點
經典消光法橢偏測量原理
儀器采用消光法橢偏測量原理,易于操作者理解和掌握橢偏測量基本原理和過程。
方便安全的樣品水平放置方式
采用水平放置樣品的方式,方便樣品的取放。
緊湊的一體化結構
集成一體化設計,簡潔的儀器外形通過USB接口與計算機相連,方便使用。
高準確性的激光光源
采用激光作為探測光波,測量波長準確度高。
豐富實用的樣品測量功能
可測量納米薄膜的膜厚和折射率;塊狀材料的復折射率、樣品反射率、樣品透過率。
便捷的自動化操作
儀器軟件可自動完成樣品測量,并可進行方便的測量數據分析、儀器校準等操作。
安全的用戶使用權限管理
軟件中設置了用戶使用權限(包括:管理員、操作者等模式),便于儀器管理和使用。
可擴展的儀器功能
利用本儀器,可通過適當擴展,完成多項偏振測量實驗,如馬呂斯定律實驗、旋光測量實、旋光等。
應用
EX2適合于教學中單層納米薄膜的薄膜厚度測量,也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數k。
EX2可測量的樣品涉及微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁質存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領域。
項目 |
技術指標 |
儀器型號 |
EX2 |
測量方式 |
自動測量 |
樣品放置方式 |
水平放置 |
光源 |
He-Ne激光器,波長632.8nm |
膜厚測量重復性* |
0.5nm (對于Si基底上99nm的SiO2膜層) |
膜厚范圍 |
透明薄膜:1-4000nm 吸收薄膜則與材料性質相關 |
折射率范圍 |
1.3 – 10 |
探測光束直徑 |
Φ2-3mm |
入射角度 |
30°-90°,精度0.05° |
偏振器方位角讀數范圍 |
0-360° |
偏振器步進角 |
0.014° |
樣品方位調整 |
Z軸高度調節:16mm 二維俯仰調節:±4° |
允許樣品尺寸 |
樣品直徑可達Φ160mm |
配套軟件 |
* 用戶權限設置 * 多種測量模式選擇 * 多個測量項目選擇 * 方便的數據分析、計算、輸入輸出 |
大外形尺寸 |
約400*400*250mm |
儀器重量(凈重) |
約20Kg |
選配件 |
* 半導體激光器 |